Відділ засновано 1 вересня 1986 р. Він складається з лабораторії плазмохімічних процесів, групи організаційно-технічного забезпечення та групи композиційних матеріалів, у складі яких працюють 1 доктор і 2 кандидати наук.
Результати робіт опубліковано в більш ніж 300 друкованих роботах, серед яких 1 монографія, 20 патентів і 3 дисертації. З більш детальним списком можна ознайомитися тут.
– дослідження процесів газофазной кристалізації металів, сплавів і з'єднань на їх основі за допомогою термічного та плазмохімічного відновлення металовмісних сполук;
– одержання корозійностійких, зносостійких і жаростійких покриттів для машинобудування, хімічної промисловості, ракетобудування, електронної техніки, медицини;
– виготовлення виробів у вигляді тиглів, трубопроводів, сосудів високого тиску, нагрівачів, оснащення для високотемпературних вакуумних печей.
Досліджено кінетику перерозподілу фаз у системі MoSi2–W при 1500 – 1800°С. Визначено кінетичні параметри росту нижчих силіцидів (Mo,W)5Si3 і зменшення шару вищого силіциду MoSi2 в залежності від температури окислення. Встановлено, що стабільність системи MoSi2–W перевищує стабільність систем MoSi2–Mo и WSi2–W;
Проведено дослідження впливу легуючих добавок ренію на характеристики міцності вольфрам-ренієвих сплавів. Показано, що добавки ренію, введені у вольфрам при спільному осадженні з газової фази їх фторидів, призводять до підвищення міцності при вигині від ∼ 340 МПа для вольфраму до ∼ 800 МПа для вольфрам-ренієвих сплавів із вмістом ренію ∼ 11 мас.%. Температура крихкопластичного переходу Тх при цьому знижується від 600 до ∼ 200°С.
Склад конденсату | Вимірювана величина | Tос = 450°C | Tос = 550°C | Tос = 650°C | |||
---|---|---|---|---|---|---|---|
Циліндрична підкладка | Плоска підкладка | Циліндрична підкладка | Плоска підкладка | Циліндрична підкладка | Плоска підкладка | ||
W | σвиг, МПа | 340 | 415 | 365 | 330 | 415 | 380 |
W + 3% Re | 280 | 805 | 785 | 750 | 770 | 815 | |
W + 11% Re | 775 | 920 | 850 | 825 | 885 | 740 | |
W | Tx, °C | 580 | 685 | 630 | 570 | 550 | 640 |
W + 3% Re | 225 | 240 | 245 | 235 | 210 | 255 | |
W + 11% Re | 180 | 200 | 220 | 175 | 205 | 215 |
Отримано бар'єрні щільнозціплені покриття на основі тугоплавких металів, які були нанесені відповідно до розроблених технологій на Zr або V оболонки ТВЕЛів, які можуть забезпечити їх захист від впливу ядерного палива на основі карбідів урану або металевого урану, а також підвищити їх надійність.
Матеріал | Товщина підслою, мкм | Середня границя міцності зчеплення, МПа | |
---|---|---|---|
підкладки | покриття | ||
Zr* | Mo-W | — | 0,2 |
V* | Mo-W | — | 0,3 |
Zr** | Mo-W | — | 5 |
V** | Mo-W | — | 6 |
Zr | Mo-W | 2 | 10 |
V | Mo-W | 2 | 12 |
Zr | Mo-W | 6 | 20 |
V | Mo-W | 6 | 22 |
Zr | Mo-W | 10 | 82 |
V | Mo-W-Cr | 10 | 86 |
Zr | Mo-W | 10 | 90 |
V | Mo-W-Cr | 10 | 86 |
Шляхом випробувань на діаметральне стиснення між двома паралельними площинами, досліджено характеристики міцності частинок діоксиду урану з покриттями зі сплаву хрому, ванадію, Al2O3–Cr і Al2O3–V в температурному інтервалі
Проведено дослідження з отримання кавітаційностійкого покриття на основі карбіду бору за допомогою водневого відновлення трьохлористого бору BCl3 і толуолу C7H8. Експериментальні результати з визначення величини ерозійного руйнування показали, що зразок з покриттям на основі карбіду бору піддається кавітаційному зносу в 2,5 рази менше, ніж аустенітна сталь.
Вперше, завдяки газофазному методу, отримано джерело атомів Si–Ge–B і Si–Ge–P на підкладках Mo і W для сублімаційного осадження гетероепітаксійних структур Si1–x–Gex(0,01 ≤ x ≤ 0,05), легованих B і P. Джерело дозволяє розширити номенклатуру речовин що наносять, діапазони робочих температур випаровування і тисків парів Si–Ge–B і Si–Ge–P, що значно покращує експлуатаційні властивості й технологічність осадження.
Показано, що отримана багатошарова гетероепітаксійна структура на монокристалічних підкладках Si і Si0,97–Ge0,03:B(∼ 1018 см−3) з буферним шаром Si0,95–Ge0,05:B(∼ 1018 см−3) та верхніми епітаксійними шарами Si0,95–Ge0,05:B(1017 – 1018 см−3) і Si0,99–Ge0,01:B(∼ 1018 см−3) характеризуються фото-ЕРС та фоточутливістю в ближчій ІЧ-області випромінювання на довжині хвиль ∼ 0,8 – 1 мкм, що важливо для подальшого розвитку оптоелектронних приладів.
Досліджено структуру та склад одержуваних з ХОР «Бархос» карбідохромових покриттів, а також їх корозійна і ерозійна стійкість у залежності від параметрів процесу осадження. Вперше виявлено утворення дворівневої шаруватої структури карбідохромового покриття і ефект зниження шорсткості поверхні виробів після осадження покриття з Ra = 0,7 – 1,2 мкм до Ra = 0,4 – 0,6 мкм. Встановлено, що підвищена стійкість покриттів зумовлена нанорозмірами структурних елементів покриття та їх шаруватою структурою, а максимальні значення адгезії, корозійної і ерозійної стійкості досягаються за температур осадження 500 – 550°С.
На даний момент, основним напрямом діяльності лабораторії є: газофазне і плазмохімічне відновлення моносилану та тетрахлориду кремнію; одержання легованих плівок кремнію; вивчення властивостей конденсатів; одержання кавітаційностійких покриттів на вигинах комутаційних трубопроводів парогенераторів; розробка процесу осадження текстурованих вольфрамових покриттів для катодів приладобудування.
1. | П.И. Глушко, А.Ю. Журавлев, Н.А. Семенов, Н.А. Хованский, Б.М. Широков, А.В. Шиян, В.В. Щербакова. Исследование кинетики образования фаз в системе MoSi2-W в условиях нагрева при температурах 1500 – 1800°С. Физическая инженерия поверхности. 2014, т. 12, №2, с. 219 – 222. |
---|---|
2. | А.Д. Осипов. О зависимостях характеристик распределения примесей у некоторых систем, содержащих элементы IV-VI групп. Вестник Национального технического университета «Харьковский политехнический институт». 2014, №28, с. 98 – 102. |
3. | А.Д. Осипов. О зависимостях температур изменения напряжений течения у некоторых элементов IV группы и других характеристик. Вестник Национального технического университета «Харьковский политехнический институт». 2014, №53, с. 179 – 184. |
4. | А.Д. Осипов. О зависимостях энтальпий образования у некоторых материалов, содержащих элементы IV–VII группы и других характеристик. Вестник Национального технического университета «Харьковский политехнический институт». 2014, №27, с. 148 – 152. |
5. | С.А. Крохмаль, Т.Н. Зуева. Получение карбидохромовых покрытий на изделиях сложного профиля и исследование защитных свойств материала покрытия. Физическая инженерия поверхности. 2014, т. 12, №2, с. 269 – 278. |
6. | А.Ю. Журавлев, А.В. Шиян, Н.А. Семенов, В.В. Левенец, Б.М. Широков, Г.В. Бокучава, Г.Ш. Дарсавелидзе. Сублимация Si-Ge из силицидогерманидов тугоплавких металлов. Georgia Chemical Journal. №14(1), с. 70 – 72. |
7. | А.Д. Осипов. О зависимостях характеристик поверхностной энергии у некоторых материалов, содержащих элементы IV-VI групп. Вестник Национального технического университета «Харьковский политехнический институт». 2014, №53, с. 173 – 178. |
8. | А.Н. Дериземля, П.Г. Крышталь, В.И. Радченко, Д.А. Хижняк, Б.М. Широков, А.И. Евсюков. Расчёт генератора для возбуждения индукционного разряда. Вестник Национального технического университета «Харьковский политехнический институт». |
9. | А.Д. Осипов. Применение эффективных потенциалов для определения температур изменения напряжений течения, плавления у некоторых элементов III-VI группы и других характеристик. УФЖ. |
10. | П.И. Глушко, А.Ю. Журавлев, Н.А. Хованский, Б.М. Широков, А.В. Шиян. Осаждение W и WRe сплавов газофазным и плазмохимическим методами. Вопросы Атомной Науки и Техники. Серия «Вакуум, чистые материалы, сверхпроводники». 2016, №1(101), с. 108 – 111. |
11. | С.А. Крохмаль, Б.М. Широков, Т.Н. Зуева, Н.А. Семенов. Структурные особенности карбидохромовых покрытий, получаемых методом MOCVD из ХОЖ «Бархос». Сборник научных статей по результатам, полученным в 2013 – 2015 по программе «Ресурс». |
12. | С.А. Крохмаль, Б.М. Широков, Т.Н. Зуева. Физико-химические свойства карбидохромовых покрытий, полученных методами MOCVD из ХОЖ «Бархос». Сборник научных статей по результатам, полученным в 2013 – 2015 по программе «Ресурс». |
13. | П.И. Глушко, А.Ю. Журавлев, Н.А. Хованский, Б.М. Широков, А.В. Шиян, Н.А. Семенов. Влияние силицидных покрытий на прочностные и пластические свойства сплава 5ВМЦ. Журнал физики и инженерии поверхности. 2016, т. 1, №2, с. 166 – 169. |
14. | С.А. Крохмаль, Т.Н. Зуева, А.А. Сущая. Применение технического продукта «Бархос» в CVD–методе получения карбидохромовых покрытий. Журнал физики и инженерии поверхности. 2016, т. 1, №2, с. 175 – 185. |
15. | С.А. Крохмаль, Т.Н. Зуева, А.А. Сущая. Структура и свойства многослойных карбидохромовых покрытий, получаемых методом MOCVD из технического продукта «Бархос». Журнал физики и инженерии поверхности. 2016, т. 1, №2, с. 194 – 206. |
16. | А.Ю. Журавлёв, Н.А. Хованский, Д.А. Хижняк, Б.М. Широков, Н.А. Семёнов, А.В. Шиян, С.В. Стригуновский, А.И. Евсюков, А.Б. Шевцов, Е.А. Назаренко, Н.Н. Пилипенко. Получение карбида кремния химическим газофазным, плазмохимическим и сублимационным методами. Вопросы Атомной Науки и Техники. Серия «Физика плазмы». 2017, №1(107), с. 191 – 194. |
17. | А.Ю. Журавлёв, А.В. Шиян, Н.А. Семёнов, Б.М. Широков. Разработка процесса газофазного и плазмохимического осаждения покрытия на основе карбида бора. Вопросы атомной науки и техники. Серия «Физика радиационных повреждений и радиационное материаловедение». 2017, №2(108), с. 156 – 159. |
18. | О.Ю. Журавльов, О.В. Шиян, М.О. Семенов, Б.М. Широков, С.В. Стригуновський. Осадження карбіду бору газофазним методом. Проблеми корозійно-механічного руйнування, інженерія поверхні, діагностичні системи: матеріали конференції КМН-2017. Львів, 2017, с. 119 – 122. |
19. | K.S. Bakai, S.A. Bakai, K.V. Kovtun, V. Gorbatenko. The Effect of Ultrasonic Vibrations on the Mechanical Properties of Nanocrystalline Titanium. Problems of Atomic Science and Technology. Series «Vacuum, Pure Materials, Superconductors». 2018, №1(113), p. 154 – 161. |
20. | А.Y. Ghuravlyov, B.M. Shirokov, А.V. Shijan. Gas-phase Deposition of Cavitation-resistant Coatings Based on Boron Carbide. Chemistry, Physics and Technology of Surface. 2018, v. 9, No. 4, p. 368 – 372. |
21. | A.N. Deryzemlia, A.I. Yevsiukov, V.I. Radchenko, D.A. Khizhnyak, P.G. Kryshtal, A.Yu. Zhuravlov, A.V. Shijan, S. Strigunovskiy, Yu.A. Pelypets, B.M. Shirokov. Hydrogen Reduction of Silicon Tetrachloride in Low Temperature Non-equilibrium Plasma of a Induction RF discharge. Problems of Atomic Science and Technology. Series «Plasma Physics». 2019, No. 1(119), p. 222 – 224. |
Начальник відділу
Доктор технічних наук за спеціальністю 01.04.07 – «Фізика твердого тіла»
Старший науковий співробітник
тел. +38(057) 335-68-16
e-mail: shirokov@kipt.kharkov.ua
Область наукових інтересів:
дослідження процесів одержання багатокомпонентних покриттів газофазним, плазмохімічним і сублімаційним методами.
Начальник лабораторії
Кандидат технічних наук за спеціальністю 05.02.01 – «Матеріалознавство»
Стипендіат НАНУ
тел. +38(057) 335-65-68
e-mail: girik081179@gmail.com
Область наукових інтересів:
вивчення процесів газофазного та плазмохімічного осадження матеріалів на основі Si, SiC, B4C, W, Mo, MoSi2, WSi2 тощо.
Науковий співробітник
тел. +38(057) 335-52-24
e-mail: krokhmal@kipt.kharkov.ua
Область наукових інтересів:
хімічне осадження з газової фази карбідохромових покриттів з високою швидкістю при низьких температурах; захист від корозійного та ерозійного зносу поверхні виробів складного профілю, довгомірних каналів малого перетину, капілярів і глухих порожнин.